光刻膠對于很多人來(lái)說(shuō)可能會(huì )比較陌生，它是半導體材料的一種，屬于化工新材料，在微電子技術(shù)中有極大的作用，今天我們就從成分到分類(lèi)、用途來(lái)詳細了解一下光刻膠。

光刻膠及其成分

光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會(huì )發(fā)生變化。光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來(lái)大規模和超大規模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開(kāi)發(fā)和應用。

光刻膠通常有三種成分：感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時(shí)還包括增感劑。

光刻膠的分類(lèi)

1、負性光刻膠

主要有聚肉桂酸系（聚酯膠）和環(huán)化橡膠系兩大類(lèi)，前者以柯達公司的 KPR 為代表，后者以 OMR 系列為代表。

2、正性光刻膠

主要以重氮職為感光化合物，以酚醛樹(shù)脂為基本材料。最常用的有 AZ-1350 系列，主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高，缺點(diǎn)是靈敏度、耐刻蝕性和附著(zhù)性等較差。

3、負性電子束光刻膠

為含有環(huán)氧基、乙烯基或環(huán)硫化物的聚合物。最常用的是 COP膠, 靈敏度0.3~0.4pC/cm2(加速電壓10KV 時(shí)）、分辨率 1.0pm、對比度 0.95。限制分辨率的主要因素是光刻膠在顯影時(shí)的溶脹。

4、正性電子束光刻膠

主要為甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮類(lèi)這三種聚合物。最常用的是 PMMA膠, 典型特性:靈敏度40~80pC/cm^2(加速電壓 20KV 時(shí)）、分辨率 0.1um、對比度 2~3。PMMA 膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高。主要缺點(diǎn)是靈敏度低，此外在高溫下易流動(dòng)，耐干法刻蝕性差。

光刻膠的用途

光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，在模擬半導體、發(fā)光二極管、微機電系統、太陽(yáng)能光伏、微流道和生物芯片、光電子器件/光子器件中都有重要的應用。